====== 3.4.2. Graveren zonder de floating graveerneus ======

- In dit hoofdstuk bekijken we hoe de plaat oppervlakte (Z=0.0) kan bepaald worden (zie 3.4.2.1). \\
- Daarna lees je welke procedure gevolgd moet worden om de in Symmetry opgegeven graveerdieptes uit te voeren in een graveerjob. (zie 3.4.2.2.)\\
- Vervolgens lees je hoe de machine mechanisch voorbereid moet worden om zonder graveerneus te werken. (zie 3.4.2.3.)\\
- Tenslotte de praktische uitvoering van een graveerjob met vergrendelde floating veer. (zie 3.4.2.4.)

  * [[:nl:x200:define_z-offset_when_surfacing|3.4.2.1. Bepalen van het plaatoppervlak]]
  * [[:nl:x200:how_to_use_symmetry_engraving_depths|3.4.2.2. Instelling om de in Symmetry ingestelde graveerdieptes te gebruiken]]
  * [[:nl:x200:how_to_lock_the_spring_pressure|3.4.2.3. De veerdruk blokkeren om zonder diepteneus te graveren]]
  * [[:nl:x200:executing_a_job_without_nosecone|3.4.2.4. Executing a job without using the nosecone]]

**Ga verder naar [[:nl:x200:define_z-offset_when_surfacing|3.4.2.1. Bepalen van het plaatoppervlak]].** \\ **Ga verder naar [[:nl:x200:inhoudstafel|de inhoudstafel]].**