Differences

This shows you the differences between two versions of the page.

--- nl:x200:engraving_without_floating_nose [2025/04/18 12:05]
erik.ketele
+++ nl:x200:engraving_without_floating_nose [2025/04/18 12:11] (current)
erik.ketele
@@ Line 1: / Line 1: @@
 ====== 3.4.2. Graveren zonder de floating graveerneus ======
-- In dit hoofdstuk bekijken we de plaat oppervlakte (Z=0.0) kan bepaald worden.
+- In dit hoofdstuk bekijken we hoe de plaat oppervlakte (Z=0.0) kan bepaald worden (zie 3.4.2.1). \\
 - Daarna lees je welke procedure gevolgd moet worden om de in Symmetry opgegeven graveerdieptes uit te voeren in een graveerjob. (zie 3.4.2.2.)\\
 - Vervolgens lees je hoe de machine mechanisch voorbereid moet worden om zonder graveerneus te werken. (zie 3.4.2.3.)\\
@@ Line 8: / Line 8: @@
   * [[:nl:x200:define_z-offset_when_surfacing|3.4.2.1. Bepalen van het plaatoppervlak]]
   * [[:nl:x200:how_to_use_symmetry_engraving_depths|3.4.2.2. Instelling om de in Symmetry ingestelde graveerdieptes te gebruiken]]
-  * [[:nl:x200:how_to_lock_the_spring_pressure|3.4.2.2. De veerdruk blokkeren om zonder diepteneus te graveren]]
+  * [[:nl:x200:how_to_lock_the_spring_pressure|3.4.2.3. De veerdruk blokkeren om zonder diepteneus te graveren]]
+  * [[:nl:x200:executing_a_job_without_nosecone|3.4.2.4. Executing a job without using the nosecone]]
 **Ga verder naar [[:nl:x200:define_z-offset_when_surfacing|3.4.2.1. Bepalen van het plaatoppervlak]].** \\ **Ga verder naar [[:nl:x200:inhoudstafel|de inhoudstafel]].**

cyborg-engravers